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烫台和硅热氧化工艺在各自的应用领域中具有不同的作用。
烫台主要用于熨烫衣物，其表面通常覆盖一层耐高温的布料或硅胶垫，能够承受熨烫时的温度，从而保护衣物不被烫坏，烫台还可以用于整理衣物上的褶皱，使衣物更加平整美观，在现代家居生活中，烫台已经成为了一种常见的家用电器，方便人们整理衣物，保持衣物的整洁和平整。
硅热氧化工艺则是一种半导体制造工艺，主要用于生成二氧化硅薄膜，在集成电路制造过程中，硅热氧化工艺发挥着重要作用，通过控制氧化气氛、温度和时间等参数，可以在硅片表面形成一定厚度的二氧化硅薄膜，这些薄膜具有良好的绝缘性能，能够防止电流泄漏和电路短路等问题，从而提高集成电路的性能和可靠性，硅热氧化工艺还可以用于制造横向扩散的晶体管结构等器件。
烫台主要用于熨烫衣物，保持衣物的整洁和平整；而硅热氧化工艺则是半导体制造工艺中的一种，用于生成二氧化硅薄膜，提高集成电路的性能和可靠性，两者在应用领域和作用上有所不同。